控温光催化反应仪CY-GHX-BC大容量试管的详细资料：

控温光催化反应仪CY-GHX-BC大容量试管

技术参数：

型号：CY-GHX-BC大容量控温光化学反应仪

（一）主体部分

1.光源功率可连续调节大小。

2.集成式光源控制器，可供汞灯、氙灯、金卤灯等多种光源使用。

3.汞灯功率调节范围：0~1000W可连续调节。

4.氙灯功率调节范围：0~1000W可连续调节。

5.金卤灯功率调节范围：0~500W可连续调节。

（二）d容量反应部分

1.玻璃反应器皿可以分别选用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率强力磁力搅拌器使样品充分混匀受光。

（三）控温装置

1.冷却水循环装置制冷量：＞1000W

2.控温范围：-5°C到100°C

3.冷却水循环装置设有脚轮和底部排液阀。

多试管光化学反应仪产品配置：

控温光催化反应仪CY-GHX-BC大容量试管

光催化反应可以分为两类"降低能垒"(down hil1)和"升高能垒"(up hil1)反应。光催化氧化降解有机物属于降低能垒反应，此类反应的△G<0，反应过程不可逆，这类反应中在光催化剂的作用下引发生成o2-、ho2 g="">0(△G=237 kJ/mo1)，此类反应将光能转化为化学能。

基本信息

概括

随着能源需求的持续增长，而储备能源日益减少的情况下，开发新能源的研究已经迫在 光解水制氢系统实物对比眉睫。氢能，它作为二次能源，具有清洁、高效、安全、可贮存、可运输等诸多优点，被人们认为是一种的绿色能源。自1972年日本东京大学Fujishima A和Honda K两位教授*报导TiO2单晶电极光催化分解水从而产生氢气这一现象后，揭示了利用太阳光直接分解水制氢的可能性，开辟了利用太阳能光解水制氢的研究道路。随着电极电解水向半导体光催化分解水制氢的多相光催化(heterogeneous photocatalysis)的演变和TiO2以外的光催化剂的相继发现，兴起了以光催化方法分解水制氢(简称光解水)的研究，并在光催化剂的合成、改性等方面取得较大进展。光解水制氢系统作为实验研究的必要仪器，也起到了举足轻重的作用，但在中国市场这个山寨和低劣仿制产品肆虐的大环境中，选择实验仪器还是需要慎之又慎的，否则会被无良厂家或经销商欺骗，即浪费了有限的科研经费，又耽误了宝贵的实验时间。

优势特点

微量气体在线收集及检测系统即光解水制氢实验系统，集成了光源，反应器及玻璃管道体系，取样系统，气体循环，真空环境等多种设计技术和制造技术，结合气相色谱仪器，可以完成高能量密度光照、反应、气体在线连续取样、分析的科研工作，为我国的能源、材料等战略性研究的不断发展做出了重要贡献。

光解水系统也称光解水制氢系统或光解水产氢系统，是利用真空系统，在常压下进行光照实验，产生的氢气利用气体搅拌器在系统中搅拌均匀，可以在线取样进入气相色谱进行检测， 保证了样品取出到检测过程的真空性和*性，减少测试数据的误差，保证微量氢气在线监测的准确性。

光解水制氢系统具备以下技术特点:

占地面积小:系统总大小仅为680*450*980mm，放在实验台上或实验室地上都可以，

为国内实验室节省了很多宝贵的实验空间。

在线检测: 稳定的气体在线收集检测系统，真空环境定量取样，使检测数据更加准确。

真空进样:进样系统与真空反应系统无缝连接，不但保证了进样时的气密性，还可以手

动进样制作氢气标样的标准曲线。

操作便捷:一站式服务，即装即用，进样、取样、检测仅需搬动一个真空阀门，操作非

常简单，zui大程度简化实验过程。

系统兼容性强:本系统不但可以进行光催化水制氢实验，还可以兼容光催化电解水制氢、热催化水制氢及常压下二氧化碳制甲醇等适合真空系统在线检测的催化实验。 高气密性阀体:AULTT系列真空系统(含光解水制氢系统)，拥有*的航天技术"金属与玻璃低温焊接技术"，可保证系统气密性达200小时以上。

检测精度高:光解水制氢系统，测量精度达1PPM，适合极微量到常量气体收集及检测的各种实验需求。

光化学反应仪主要用于研究气相或液相介质、固定或流动体系、紫外光或模拟可见光照、以及反应容器是否负载TiO2光催化剂等条件下的光化学反应。具有提供分析反应产物和自由基的样品，测定反应动力学常数，测定量子产率等功能，广泛应用化学合成、环境保护以及生命科学等研究领域

光化学、干膜、曝光及显影制程术语手册1、Absorption 领受，吸入

指被领受物会进入主体的内部，是一种化学式的吸入步履。如光化反映中的光能领受，或板材与绿漆对溶剂的吸入等。还有一近似词 Adsorption 则是指吸附而言，只附着在主体的概略，是一种物理式的亲和吸附。

2、Actinic Light(or Intensity，or Radiation) 有用光

指用以完成光化反映各类光线中，其zui有用波长规模的光而言。例如在360～420 nm 波长规模的光，对偶氮棕片、浅显吵嘴底片及重铬酸盐感光膜等，其等反映均zui快zui*且功用zui大，谓之有用光。

3、Acutance 解像尖锐度

是指各类由感光编制所取得的图像，其线条边缘的尖锐景象抽象 (Sharpness)，此与解像度 Resolution 不合。后者是指在必定宽度距离中，可以了了的显像(Develope)解出若干良多多少组“线对”而言(Line Pair，系指一条线路及一个空间的组合)，普简易称只说解出机条“线”而已。

4、Adhesion Promotor 附出力增进剂

多指干膜中所添加的某些化学品，能促使其与铜面发生“化学键”，而增进其与底材间之附出力者皆谓之。

5、Binder 粘结剂

各类积层板中的接着树脂部份，或干膜之阻剂中，所添加用以“成形”而不致太“散”的接着及组成剂类。

6、Blur Edge(Circle)恍惚边带，恍惚边圈

多层板各内层孔环与孔位之间在做瞄准度搜检时，可把持 X光透shi法为之。由于X光之光源与其机组均非平行光之机关，故所得圆垫(Pad)之减少回忆，其边缘之解像其实不明锐了了，称为 Blur Edge。

7、Break Point 出像点，显像点

指制程中已有干膜贴附的“在制板”，于自动保送线显像室上下喷液中遏制显像时，抵达其完成冲洗而闪现出了了图形的“旅程点”，谓之“Break Point”。所经历过的冲洗旅程，以占显像室长度的 50~75% 之间为好，如斯可以使剩下旅途中的清水冲洗，更能增强断根残膜的成果。

8、Carbon Arc Lamp 碳弧灯

晚期电路板底片的翻制或版膜的分娩时，为其曝光所用的光源之一，是在中心迫近的碳精棒之间，施加高电压而发生弧光的拆卸。

9、Clean Room 无尘室、洁净室

是一个遭到卖力经管及精采把握的房间，其温度、湿度、压力都可加以调剂，且气氛中的尘埃及臭气已予以消弭，为半导体及细线电路板分娩制造必需的景象抽象。浅显“洁净度”的表达，是以每“立方呎”的气氛中，含有大于0.5μm以上的尘粒数目，做为分级的尺度，又为俭仆成本起见，常只在使命台面上设置部门无尘的景象抽象，以尝试必需的使命，称 Clean Benches。

10、Collimated Light 平行光

以感光法遏制回忆转移时，为添加底片与板面间，在图案上的变形走样起见，应采纳平行光遏制曝光制程。这类平行光是经由屡次反射折射，而取得低热量且近似平行的光源，称为Collimated Light，为细线路建筑必需的装备。由于垂直于板面的平行光，对板面或景象抽象中的少许尘埃都很是缓慢，常会忠诚的暗示在所晒出的回忆上，构成许多额定的漏洞错误，反不如浅显散射或漫射光源可以也许自彼此补而消弥，故采纳平行光时，必需还要无尘室的合营才行。此时底片与待曝光的板面之间，已无需再做抽真空的密接(Close Contact)，而可间接使用较严重的 Soft Contact或Off Contact了。

11、Conformity吻合性，fu贴性

完成零件坏配的板子， 为使整片板子外形遭到卖力的呵护起见，再以绝缘性的涂料予以封护涂装，使有更好的信赖性。浅显军yong或较高条理的拆卸板，才会用到这类外形贴护层。

12、Declination Angle 斜射角

由光源所间接射下的光线，或经各类折射反射过程后，再行射下的光线中，凡闪现不垂直射在受光面上，而与“垂直法线”呈某一斜角者(即图中之 a角)该斜角即称 Declination Angle。当此斜光打在干膜阻剂边缘所组成的“小孔相机”并经 Mylar 折光下，会泛起另外一“平行光”之半角(Collimation HalfAngle，CHA)。但凡“细线路”曝光所邃密精彩的“高平行度”的曝光机时，其所呈的“斜射角”应小于 1.5 度，其“平行半角”也须小于 1.5 度。

13、Definition 边缘传神度

在以感光法或印刷法遏制图形或回忆转移时，所取得的下一代图案，其线路或各导体的边缘，是不是能泛起齐直而又忠于原底片之外形，称为“边缘齐直性”或传神度“Definition”。

14、Densitomer 透光度计

是一种对吵嘴底片之透光度(Dmin)或遮光度(Dmax)遏制丈量之仪器，以搜检该底片之劣化水平若何。其经常使用的品牌如 X-Rite 369 等于。

15、Developer 显像液，显影液，显像机

用以冲洗掉未感光聚合的膜层，而留下已感光聚合的阻剂层图案，其所用的化学品溶液称为显像液,如干膜制程所用的碳酸钠(1％)溶液等于。

16、Developing 显像，显影

是指感光回忆转移过程中，由母片翻制子片时称为显影。但对下一代像片或干膜图案的闪现作业，则应称为“显像”。既然是由底片上的“影”转移成为板面的“像”，虽然就该当称为“显像”，而不宜再续称底片阶段的“显影”，这是浅而易见的事理。可是业界积非成是习用已久，一时兴不苟且更正。日文则称此为“现像”。

17、Diazo Film 偶氮棕片

是一种有棕色阻光膜的底片，为干膜回忆转移时，在紫外光中公用的曝光用具(Phototool)。这类偶氮片即使在棕色的遮光区,也能在“可见光”中透shi现实片下的板面景象抽象，比吵嘴底片要便当的多。

18、Dry Film 干膜

是一种做为电路板回忆转移用的干性 gan光薄膜阻剂,还有 PE 及 PET 两层皮膜将之夹心呵护。现场施工时可将 PE 的隔离层撕掉，让中心的感光阻剂膜压贴在板子的铜面上,在经由底片感光后即可再撕掉 PET 的表护膜，遏制冲洗显像而组成线路图形的部门阻剂，进而可再尝试蚀刻(内层)或电镀(外层)制程，zui初在蚀铜及剥膜后，即取得有裸铜线路的板面。